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表面处理对氮化硅陶瓷力学性能的影响

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摘要采用X射线衍射应力分析的sin2ψ法计算了Si3N4陶瓷试样的残余应力,并分别测量了表面处理前后Si3N4试样的力学性能.结果表明,经平面磨削后的Si3N4试样表面残余应力为拉应力,而抛光处理可适当降低残余应力.两种方法都使试样抗弯强度降低.

DOI lj1qq6v2dv/2079444

作者张东方

机构地区不详

出处《佛山陶瓷》 2003年5期

关键词表面处理氮化硅陶瓷力学性能 X射线衍射应力 sin2ψ法残余应力

分类 [化学工程][陶瓷工业]

出版日期 2003年05月15日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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