采用X射线衍射应力分析的sin2ψ法计算了Si3N4陶瓷试样的残余应力,并分别测量了表面处理前后Si3N4试样的力学性能.结果表明,经平面磨削后的Si3N4试样表面残余应力为拉应力,而抛光处理可适当降低残余应力.两种方法都使试样抗弯强度降低.
佛山陶瓷
2003年5期
