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《甲醛与甲醇》
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聚合反应器内壁防垢法:日本公开特许JP2000—40,007
聚合反应器内壁防垢法:日本公开特许JP2000—40,007
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摘要
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DOI
pj09zw6wjy/1414327
作者
机构地区
不详
出处
《甲醛与甲醇》
2002年2期
关键词
聚合反应器
内壁
防垢法
专利
日本
分类
[化学工程][有机化工]
出版日期
2002年02月12日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
甲醛与甲醇
2002年2期
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