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化学机械抛光中抛光垫技术专利文献综述

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摘要基于DWPI数据库,通过检索、统计和分析国内外CMP抛光垫技术专利申请文献,分析CMP抛光垫技术领域的研究现状,归纳总结CMP抛光技术的研究方向和研究结论,并展望CMP抛光垫技术的发展趋势。

DOI 7dm1pvgvdn/1672054

作者张宽

机构地区不详

出处《重庆电子工程职业学院学报》 2016年4期

关键词抛光化学机械抛光垫专利

分类 [文化科学][职业技术教育学]

出版日期 2016年04月14日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

重庆电子工程职业学院学报

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