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一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法(专利号:95111978.8)
一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法(专利号:95111978.8)
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摘要
一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法,最低沉积温度为250℃,其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源,过程如下:将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上,用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区,并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气(含汽化液体或固体)和氢气。
DOI
2lde2rkqd3/251189
作者
机构地区
不详
出处
《工业金刚石》
2004年6期
关键词
激光化学气相沉积
工作台
金刚石膜
反应室
沉积温度
衬底
分类
[金属学及工艺][刀具与模具]
出版日期
2004年06月16日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
工业金刚石
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