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《无机盐技术》
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2006年1期
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国外超高纯及超细纳米材料
国外超高纯及超细纳米材料
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摘要
1超高纯水溶性胶体二氧化硅一半导体生产中,用作化学机械抛光(CMP)的抛光剂日本Fusochemical公司开发成功一种水溶性超高纯胶体二氧化硅.其二氧化硅含量较现有产品高出3倍。到目前为止.水溶性胶体二氧化硅的最高含量12%.该公司通过优化溶胶凝胶合成工艺.使其二氧化硅含量高达40%。该公司合成的超高纯胶体二氧化硅占有世界硅片抛光剂市场份额的80%。
DOI
pd5kykxmd7/415347
作者
陶道敏(译)
机构地区
不详
出处
《无机盐技术》
2006年1期
关键词
超高纯
chemical公司
纳米材料
化学机械抛光(CMP)
胶体二氧化硅
二氧化硅含量
分类
[化学工程][无机化工]
出版日期
2006年01月11日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
无机盐技术
2006年1期
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