国外超高纯及超细纳米材料

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摘要 1超高纯水溶性胶体二氧化硅一半导体生产中,用作化学机械抛光(CMP)的抛光剂日本Fusochemical公司开发成功一种水溶性超高纯胶体二氧化硅.其二氧化硅含量较现有产品高出3倍。到目前为止.水溶性胶体二氧化硅的最高含量12%.该公司通过优化溶胶凝胶合成工艺.使其二氧化硅含量高达40%。该公司合成的超高纯胶体二氧化硅占有世界硅片抛光剂市场份额的80%。
机构地区 不详
出处 《无机盐技术》 2006年1期
出版日期 2006年01月11日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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