首页 > 《中国科技信息》 > 2021年13期 > 西安地区露地西瓜地膜覆盖栽培技术

西安地区露地西瓜地膜覆盖栽培技术

在线阅读下载PDF 导出详情

摘要摘要：西瓜为喜温作物，生育适宜温度为20℃～30℃，根系生长最适温度为28℃～32℃度。同时西瓜也是喜光植物，结果期对日光照射时间要求为10～12小时。为了同时满足西瓜对温度和光照的需求，采用露天覆盖地膜栽培技术，可有效的提高西瓜栽培的产量和果实品质。本文以西安地区为例，探讨露地西瓜地膜覆盖栽培技术。旨在为露天西瓜栽培提质增效提供一些参考。

DOI 54yqklzkj0/5650776

作者 1赵正平 2梁小贤

机构地区 1西安市蓝田县园艺站 710500

出处《中国科技信息》 2021年13期

关键词西瓜露地地膜覆盖增温透光

分类 [][]

出版日期 2021年11月18日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）