简介:摘要:半导体金属化工艺中,要求金属层光泽致密,无氧化,无损伤,接触好,粘附牢,膜厚可控,均匀性好等等,所以不管是电子束蒸发台还是磁控溅射台等等,都要求设备本身提供一个高真空的镀膜环境。
高真空蒸发镀膜设备及检漏