简介：采用化学方法制备直径约100μm的超大尺寸氧化石墨烯,利用Langmuir-Blodgett自组装法将其逐层沉积于基体表面,制备透明导电薄膜。经过高温还原后,平坦、紧密排列结构的石墨烯薄膜具有高导电性及透明度。在86%的透明度下,获得的表面电阻为605-/sq,此光电性质优于用化学气相沉积法在Ni表面生长的薄膜。该方法具有易操作、成本低、便于工业化大规模生产等优势。

简介：本文简单论述了聚酰亚胺薄膜的生产工艺，并重点分析了厚度均匀性对薄膜力学性能、电气性能的影响以及测试和改进方法。

简介：在经过NaOH-HCl预处理的镍钛合金基体上,采用溶胶-凝胶法制备纳米多孔TiO2薄膜;当涂覆一层致密内膜和一层多孔外膜时,可得到无裂纹的薄膜（试样TC1＋1）。X射线衍射表明,TiO2薄膜由锐钛矿组成,在热处理的基体中还检测到少量的Ni4Ti3相。X射线光电子谱分析表明,试样TC1＋1的TiO2薄膜完全覆盖了镍钛合金基体。试样TC1＋1的表面亲水,接触角约为20°,紫外光照处理15min后接触角降低到（9.2±3.2）°。在0.9%NaCl溶液中的动电位极化实验表明,试样TC1＋1的耐蚀性高于抛光的镍钛合金试样的。

简介：通过一个简单的水热方法成功地合成出由SnO2纳米片作次级结构的新型花状ZnSnO3-SnO2分级纳米结构。ZnSnO3多面体在生长分级SnO2纳米片的过程中主要起模版作用,制备出的SnO2纳米片的厚度约为25nm。还讨论了ZnSnO3-SnO2样品的形貌随反应时间变化的规律,并且进一步讨论了形成这种分级结构的形成机制。此外,由这种新型ZnSnO3-SnO2纳米结构作敏感材料的气体传感器对乙醇气体具有高灵敏和快响应的特点。ZnSnO3-SnO2纳米片在最佳工作温度270°C时,对50×10-6乙醇气体的灵敏度约为27.8,其响应和恢复时间分别在1s和1.8s内。

简介：第五节FR-4覆铜板填料的使用在覆铜板中添加填料，是一门技术，而且是一门很高深的技术。这方面我们和国际上水平先进的厂家差距还很大，当前，在国内能够做得比较好的厂家不多。因此，在这里单独列一节进行阐述，希望对诸位同行有所帮助。

简介：铝灰是不可避免的铝工业副产品，通常铝灰重量能占到电解铝厂的总产量的1％～5％之间，装备有各种压制机头／盘选择方案的ALTEKTARDfS第二代铝灰压制机能有效处理所有颗粒的铝灰，其原理引导着铝熔炼过程中回收铝的新方向，这种装置对于从灰渣中回收铝和降低环境污染有着明显的节能效果。

简介：采用物理化学恒电流电解装置和抽滤洗涤装置将先进高温结构材料FGH96中γ＇相萃取分离,利用X射线衍射、扫描电子显微和能谱等分析技术,以及化学成分分析方法,对萃取相的组成、类型、形状、粒度大小及晶体结构等进行分析。结果表明适用于粉末高温冶金的理解提取分离第二相的条件是：电解液（1%（NH4）2SO4＋2%酒石酸＋5%乙二醇）,电流密度0.03A/cm2,电解温度-5～0℃,电解时间30min;萃取粉末物理定性XRD分析采用CuKα辐射（40kV,40mA）,狭缝规格1.0mm×1.0mm×0.6mm,扫描范围10°～90°,步长0.02°;ICP法适用于进行萃取第二相粉末元素含量的分析。

简介：第七节FR-4覆铜板上胶生产设备设备是产品生产的基础保证，也是一个工厂的门面。设备是否先进，是否能够生产出高质量产品，跟设备的设计是否能适应生产工艺要求。设备的加工精度和安装精度是否能够达到生产工艺要求有关。对于一些大的工厂，有充足的资金去购买全套先进设备，但对于资金量不足的中小企业。可以有选择采用部分对产品性能影响最大的先进设备，以使较低的投资也能做出品质比较好的覆铜板产品。

简介：通过分析国内低品位废杂铜再生综合利用的现状，针对存在的问题，对国内外低品位废杂铜再生利用技术进行研究，提出低品位废杂铜再生综合利用的新工艺思路与技术重点。

简介：近日，九江经济技术开发区举行了两大覆铜板项目签约仪式。总投资10亿元的文明达覆铜板及线路板项目由文明达电子（深圳）有限公司投资建设，固定资产投资8．16亿元，用地175亩。项目建设后，将形成年产600万张覆铜板，200万平方米线路板的生产能力，实现年产值24．6亿元，年利润约2.77亿元，年税收约1．5亿元。预计今年6月开工建设，明年6月一期建成投产，2015年6月项目全面投产。

简介：海洋钻井平台工艺管道工况复杂，管道常规检测方法难以满足检测要求，迫切需要一种有效的在线检测技术。鉴于低频超声导波技术是管道在线检测的有效手段，本研究采用MsS导波技术对某平台的带套管的人海输油管道进行了在线检测试验，讨论了检测频率的选择要求，设计制作了试验样管，对样管进行了检测验证。样管检测和在用管道在线检测验证试验表明，MsS导波技术是解决海洋平台工艺管道在线检测技术难题的一种有效手段，可为今后同

简介：2012年11月30日，全国印制电路标准化技术委员会（SAC／TC47）2012年年会及扩大会议在北京市召开。工业和信息化部电子信息司乔跃山处长、中国电子技术标准化研究院张宏图副院长及来自电子装联行业的28家单位的40余名代表参加了会议。会议由中国电子科技集团公司第十五研究所所副书记、全国印制电路标准化技术委员会主任委员陈长生主持。

简介：各有关单位：近年来，中国铝工业在技术升级和产业转型等方面取得了长足的进步，步入了一个崭新的历史．发展阶段。“十二五”期间，我国再生铝产业将迎来一个更好的发展机遇。