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激光诱导晶化技术制备纳米硅的研究

作者：薛清
学科：理学 > 物理
创建时间：2007-03-13
出处：《大学物理实验》 2007年第3期

简介：利用电子束蒸发技术在硅衬底上镀一层2.5μm厚的含氢非晶硅薄膜,用氩离子激光器的488nm谱线作激发光线,对a-Si-H薄膜进行辐照,使a-Si-H晶化。其拉曼散射谱和电子衍射谱的结果表明,经激光辐照后,在a-Si-H薄膜中形成纳米硅粒。
标签：薄膜激光纳米硅

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