简介：摘要：在本篇文章中，主要对西门子S7-400冗余PCL控制系统整体结构进行了简单的论述，提出了西门子S7-400冗余控制的基本优势以及总结了PLC系统维修方式，经过相关探究表明，科学合理的使用相关方式有利于将故障彻底排除，从根本上提升操作技能。

简介：摘要本文针对电厂除灰、精处理因设备老化、故障率高的S7-400系统，改造为和利时MACS-K控制系统，解决了设备稳定可靠并实现与主机DCS一体化控制的目的。

简介：介绍了漂白工段在制浆造纸工业中的重要性及其工艺流程,针对漂白工段碱化塔复杂的工艺特性,采用多模态控制算法实现对塔温的优化控制,同时给出了基于西门子S7-400控制系统的硬件结构及系统配置。

简介：摘要： 随着中国经济的不断发展并且持续对基建等项目的大规模开设，表明未来中国对优质铁矿石的需求仍将增加。因此铁矿石生产商不得不加大并加快矿石加工力度，以满足国家对铁矿石资源的需求。工业自动化技术作为20世纪现代制造业最重要的技术之一，能够使生产更加稳定快速。于是在岚山港矿石码头项目中我们将工业自动化技术应用到实际生产当中，通过S7-400H 及WinCC构造的容错自动化系统,成功开发了岚山港矿石输送系统，采用容错自动化系统能够降低生产停机时间，提高工作效率。S7-400H 及WinCC监控系统在岚山港矿石输送系统系统中得到了很好的应用。

简介：摘要：本文阐述了宽厚板精整生产线上的ABB AC450控制系统与SIEMENS S7-400控制器之间的以太网通讯实现。为了便于我们对系统更好地进行二次开发以及数据采集和分析，文中分别着重介绍了AC450 控制器和S7-400控制器侧的以太网通讯硬件组态配置和软件编制。

简介：【摘要】 阐述了西门子S7-400 PLC（可编程控制器）在生产现场易出现的故障，表现出来的故障现象，并通过分析原因采取的有针对性的处理方法。

简介：在不同的溅射功率和溅射时间下，使用磁控溅射设备制备了系列薄膜Si／Fe（P1W，T1s）和Si/[Fe（P2W，T2s）／NiO（P3w，T3s）]10。利用小角X射线衍射测量了样品的衍射强度分布，并分别计算出了Fe和NiO在不同溅射功率下的沉积速率。实验结果表明，在测量范围内沉积速率与溅射功率之间存在线性关系。

简介：摘要本文基于磁控溅射的磁场分布水平和磁场强度在镀膜性能与质量上影响与价值分析，结合磁控靶材的结构及其磁场的计算方法和步骤的探讨，以及利用ANSYS软件对磁控溅射靶磁场的分布及其相关参数作二维的模拟与分析，对影响磁控溅射磁场分布和磁场强度的主要素和作用机制作详细的分析，以为优化磁控溅射靶的设计，达到正常溅射工作对靶材表面磁场分布及大小的要求提供借鉴与参考。

简介：用直流磁控溅射技术在室温下制备了厚度为108和215nmAu膜。利用常规CBD扫描模式对Au膜微结构进行分析。XRD分析表明Au膜在平行于基片表面沿〈111〉方向择优生长;薄膜的晶格常数与金粉末的晶格常数（a=4.0862F）一致,晶粒尺寸随膜厚变化不明显。

简介：摘要：通过对 阴极溅射靶、镀膜室以及真空系统分子泵等的设计理念进行概述，并针对某一种多靶磁控溅射镀膜设备进行了分析和研究。 通过对该设备进行镀膜工艺的处理，以此来判定镀膜设备是否符合工艺要求 [1]。

简介：摘要：我们常见的镀膜方法有物理气相沉积镀膜（简称PVD）和化学气相沉积镀膜（简称VCD）。物理气相沉积镀膜主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。本文介绍的镂空镀膜涉及的镀膜方法是真空溅射镀膜。真空溅射镀膜技术是目前大批量镀膜玻璃生产中最主要的技术之一，它具有膜层厚度均匀、基片温度低、沉积速度快等一系列优点。镂空镀膜与传统追求的膜层均匀完整有所区别，简而言之，镂空镀膜就是采用不同的方法使完整的膜层表现出镂空图案效果。

简介：介绍了磁控阴极溅射系统的工作原理和故障维修。

简介：

简介：为保证制造精度,对机械加工后的聚氨酯泡沫塑料制件,采取镀前表面封闭处理、刮涂腻子、喷涂底漆和磁控溅射镀不锈钢的工艺路线;井对过程中主要工艺参数控制特别是铰膜的温度控制作了详细的研究。

简介：

简介：[摘要]全自动磁控溅射的镀膜设备，属于单靶单腔，不但能够将以往传统磁控溅射的镀膜设备所潜在靶间污染相关问题有效处理好，且以高真空的机械手实施传送片作业，工艺腔室当中真空破坏得以减少，可实现高效化地生产作业，工作效率总体提升显著。故本文主要探讨全自动磁控溅射的镀膜设备与其工艺，仅供业内参考。

简介：摘要采用X射线衍射分析(XRD)测试分析了多晶ZnO薄膜的晶格结构和力学性能。薄膜的制备采用了射频(RF)磁控溅射方法,并分别在不同温度下进行了退火处理。XRD分析显示随着退火温度的上升,薄膜的晶粒尺寸逐步增大,且C轴取向显著增强。测试结果表明适当的退火处理对ZnO薄膜的结晶品质有明显的改善。

简介：摘要采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明,在衬底温度为500℃时制备的ZnO薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,结构致密,且沿c轴择优生长。

简介：“磁控溅射离子镀膜技术产业化项目”是渐江省临安市2005年最大的一个外资项目，由浙江汇锦集团和英国梯尔公司合资组建而成的，由汇锦梯尔镀层科技有限公司负责实施。注册资本1200万美元，总投资35639万美元。据初步估计，该项目投产后，年销售收入为9．7亿人民币，可创税利1亿元以上。

简介：[摘要]高真空多靶的磁控溅射镀膜设备，其主要应用于磁性金属各种合金薄膜制备当中，以基底部位旋转溅射及共聚焦等方式为主，将150*150mm各类合金薄膜有效制备出来。为充分把握该设备具体研制情况，便于今后更好地推广及使用该设备，本文主要探讨高真空多靶的磁控溅射镀膜设备研制，期望可以为后续更多技术工作者和研究学者对此类课题的实践研究提供有价值的指导或者参考。