简介：摘要钨、钼常以共生或伴生的状态形成金属矿床，这就需要解决多金属矿物分离的技术问题，快速、准确地测定多金属矿物中钨、钼的含量对找到成矿规律意义重大，可以为地质勘查工作提供很大的帮助。传统的测定方法操作复杂，且耗时长，效率低，所用试剂对环境污染严重。经过对测定方法的改进，采用酸溶法和碱熔法结合溶样，电感耦合等离子体发射光谱法进行测定的方法，操作便捷，社会效益以及经济效益显著提高。

简介：建立了PDE管内利用等离子体射流点火过程的一维两相流体动力学数学模型,并用CE/SE方法对管内两相爆轰过程进行了数值模拟。分析讨论了等离子体射流点火不同射流时间及点火能量对于爆轰波形成的影响。结果表明：与常规火花点火相比,等离子体射流点火可以缩短DDT时间约35%,缩短DDT距离约30%;在能够形成爆轰的情况下,等离子体点火能量和点火时间的增加对DDT距离影响很小。计算结果对提高脉冲爆轰发动机的运行频率具有重要的参考价值。

简介：总结了100例经尿道前列腺增生等离子体双极汽化电切术病人的护理经验，分别从术前准备、术后观察护理进行介绍。认为术前、术后良好的护理配合，是该手术成功的重要保证。

简介：摘要随着科学技术的不断发展，电感耦合等离子体发射光谱法在金属材料领域中的应用也越来越广泛。本文对电感耦合等离子体原子发射光谱法在金属材料分析方面进行了大量的研究，其中包括金属材料样品中的溶解、富集分离和干扰等重大问题的应用进行了多方位的阐述。通过研究发现ICP-AES在分析速度、范围和准确度等方面都有了很大程度的提高。在实际应用中，电感耦合等离子体原子发射光谱法在金属材料分析中具有准确度高和精密度高、检出限低、测定快速、线性范围宽、可同时测定多种元素等优点。国外已广泛用于环境样品及岩石、矿物、金属等样品中数十种元素的测定。

简介：摘要目的为了解CASP-120型过氧化氢低温等离子体灭菌器性能，采用化学指示剂和生物指示剂方法，对其灭菌效果进行了监测。结果经过该灭菌器常规灭菌程序1000余次灭菌处理，所有灭菌包装袋指示条及化学指示胶带和化学指示卡全部由桔红色变成淡黄色，均达到合格要求，灭菌后的生物指示剂经培养全部呈紫色，阳性对照组全部变成呈黄色，即生物监测结果全部合格。灭菌器自动工艺监测发生20次灭菌程序自动中断，经检查发现为灭菌物品过湿及需要加液报警所致。经重新干燥，更换包装袋或重新加液后继续灭菌程序，灭菌合格。结论CASP-120型过氧化氢低温等离子体灭菌器灭菌效果可靠，灭菌过程故障可自动检出。

简介：经尿道等离子体双极电切治疗尿道狭窄具有创伤小、术后并发症少和狭窄复发率低等优越性，是有效的微创技术之一。2003年3月～2005年11月，我科应用经尿道等离子体双极电切治疗尿道狭窄21例，取得了良好的效果，现将围手术期护理报道如下。

简介：

简介：采用脉冲射频等离子体聚合技术,在医用不锈钢表面制备了等离子体聚烯丙胺薄膜,并进一步在聚合薄膜表面固定白蛋白(BSA)分子。采用傅立叶红外光谱(FTIR)、X光电子能谱(XPS)、台阶仪、原子力显微镜和淌滴法分别表征结构成分、厚度、表面形貌和水接触角。结果表明:随着放电功率增加,聚烯丙胺薄膜中氮含量及伯胺基浓度减小,薄膜厚度和表面粗糙度增加,接触角增大。XPS分析证明白蛋白分子被固定于聚烯丙胺薄膜表面。体外血小板粘附评价表明,不锈钢表面固定白蛋白的聚烯丙胺薄膜能显著抑制血小板粘附及激活。

简介：摘要目的建立硝酸硫酸微波消解-电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-AES）测定面制品中含铝食品添加剂的测定方法。方法称取0.5g样品，经硫酸硝酸微波消解、赶酸定容后导入ICP-AES，于396.152nm处测定。结果方法检出限0.6mg/kg，标准溶液线性范围0-15mg/L（样品检测范围为0-750mg/kg），r>0.999，RSD1.1-1.5%（n=6）,加标回收率95.5-101.6%。结论方法灵敏度高、检测限低、精密度好、线性范围宽，简便快速，可作为日常监督配套的检测方法。

简介：采用电感偶合等离子体原子发射光谱法测定了不同产地大蒜中微量元素的含量，并作了较为详细的比较，结果表明大蒜中含有较为丰富的微量元素，是极为珍贵的资源。

简介：摘 要：本实验采用介质阻挡放电产生低温等离子体对浸渍法制备的 Au/TiO2 催化剂进行改性，研究了等离子体放电时间对催化剂性能的影响。选取二甲苯作为污染物气体，对比考察等离子体改性和焙烧制备的 Au/TiO2 催化剂对二甲苯去除率、CO 和 CO2 选择性的影响，并通过 BET 比表面积、扫描电子显微镜（SEM）、X 射线衍射（XRD）和 X 射线光电子能谱分析（XPS）进行表征测试。结果表明，TiO2 对二甲苯的去除有促进作用；Au 负载在 TiO2 上能促进二甲苯的完全氧化，提高 COx 的选择性；等离子体改性作用能生成粒径较小的催化剂，有较好的表面分散性。本文主要对低温等离子体改性金催化剂的特性研究做简单概述，对具体实验内容不做太多介绍，只是对研究背景、研究内容及研究结果做简单介绍。

简介：摘要：电感耦合等离子体发射光谱（ICP-OES）法在水中的应用逐步增多，通过对于水中铝、铁、铜、锰、锌样品前处理、仪器条件及波长的选择，采用电感耦合等离子体发射光谱法；通过空白测试、检出限和定量限、精密度试验、空白回收率实验、样品加标回收率及质控样的测试及已知浓度元素间抗干扰实验等去验证，该方法能够准确、快速有效的测定水中元素的含量。

简介：摘要：文章论述了电感耦合等离子体发射光谱（ICP-AES）法测定铬镍合金中锰，钛，磷，铜，铝，硅，铁等七种杂质元素的方法。在不改变样品前处理过程及仪器结构的前提下，采用标准加入法进行测试。经过实验决定该仪器的最适合的测试要求并采用基体匹配让所测杂质元素加标回收率为98.9到110.0%之间，使RSD小于1.0，准确度及精密度良好，能够始于分析需求。

简介：等离子喷涂液相合成法是一项生产纳米材料的新技术，这项新技术利用工业上的等离子体喷涂系统在大气环境中生产纳米粉末，用简单的平行电极静电收集器可进行粉末的收集。研究表明利用等离子体的高温、高温度梯度的特性，可使钛酸丁酯发生裂解而制得纳米TiO2粉末。等离子喷涂合成法是一个简单的工艺过程，

简介：采用等离子喷涂技术,在C/C-Cu复合材料表面制备W涂层,采用氧乙炔焰进行烧蚀考核,通过金相显微镜、扫描电镜及X射线衍射仪对烧蚀前后涂层的显微组织及相组成进行分析,并与没有W涂层的C/C-Cu复合材料进行对比。结果表明,熔蚀后有涂层的C/C-Cu复合材料质量损失仅0.9mg/s,无涂层C/C-Cu试样的质量损失为5.6mg/s。C/C-Cu复合材料表面W涂层较致密,与基体结合良好。烧蚀后C/C-Cu表面W涂层主要生成WO3和CuWO4,能谱分析（EDAX）表明有较多的Cu元素存在,但分布不均匀。W涂层在烧蚀后均较粗糙、疏松,存在孔洞和裂纹等缺陷,成为降低性能的重要因素。

简介：为提高45CrNiMoVA钢表面的耐磨性能,采用HEPJet超音速等离子喷涂系统在其表面制备了Mo涂层,通过场发射型超高分辨率扫描电镜(FieldEmissionScanningElectronMicroscopy,FESEM)、X射线能量谱仪(EnergyDispersiveSpectrometer,EDS)、电子扫描电镜(ScanningElectronMicroscopy,SEM)及高精度三维形貌仪对比分析了涂层与基体的摩擦磨损性能及磨损机理,并对涂层磨损率的影响因素进行了研究。结果表明:轻载荷(试验载荷为5N)、低频率(滑动频率为5Hz)下,涂层的磨损率略低于基体,其磨损机理为粘着磨损和氧化磨损,而基体为粘着磨损、氧化磨损和轻微的磨粒磨损;重载荷(试验载荷为20N)、高频率(滑动载荷为20Hz)下,涂层的磨损率约为基体的50%,磨损机理同样为粘着磨损和氧化磨损,基体则表现为严重的磨粒磨损和氧化磨损;涂层磨损率随载荷的增加呈先上升后下降的趋势;涂层磨损率随滑动频率增大而上升,但上升速度不一,这与摩擦生热量对氧化膜生成速度影响程度密切相关;涂层磨损率随时间延长而稳定上升。

简介：从等离子设备与等离子喷涂技术两方面综合分析了近年来等离子喷涂技术的研究现状和发展概况,并指出了等离子喷涂技术的发展方向.

简介：涂层内氧化物和孔隙等微观缺陷是影响涂层力学性能的关键因素，采用等离子喷涂技术制备TiN涂层，利用SEM、XRD、EDS分析喷涂参数对涂层内氧化物和孔隙率的影响，并研究氧化物和孔隙率对涂层硬度和断裂韧性的影响规律，优化等离子喷涂参数。结果表明：在较远喷涂距离和较大喷涂功率下，涂层内具有较少的氧化物和孔隙；随涂层内氧化物和孔隙增多，涂层硬度呈降低趋势；涂层内氧化物的存在可提高涂层的断裂韧性，但氧化物较多时会降低涂层层状结构内聚强度，涂层断裂韧性随氧化物增多呈现先增加后降低的变化趋势。

简介：本文采用等离子喷涂的方法制备了纳米WC—Co涂层以及超细WC—Co涂层，研究了涂层的高温摩擦磨损性能及失效机理。研究表明，在高温磨损情况下，纳米涂层的综合耐磨损性能明显优于超细涂层。超细涂层和纳米涂层的磨损机理不同，超细涂层以脆性断裂和粘着磨损为主，伴随有磨粒磨损，纳米涂层以韧性断裂和磨粒磨损为主，伴随有粘着磨损。

简介：目的综述了近几年来国内外有关等离子喷涂羟基磷灰石涂层优化方法的研究进展,并从过程控制的角度为涂层的优化提供一个新的思路.方法从等离子喷涂工艺参数、对涂层进行后期热处理以及梯度涂层的设计等三个方面介绍了有关涂层优化的研究进展情况.结果通过改变喷涂工艺参数可以改善涂层的组织与性能;通过对涂层进行后期的热处理可以提高涂层的结晶度;通过制备梯度涂层可以提高涂层与基体之间的结合强度.结论研制出既具有较高的界面结合强度又有较好稳定性的种植体材料是下一步羟基磷灰石涂层种植体材料的发展方向.