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《材料导报:纳米与新材料专辑》
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波长小于10nm的软X射线多层膜制备技术
波长小于10nm的软X射线多层膜制备技术
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摘要
软X射线短波段区域(1~10nm)高反射率多层膜的制备对软X射线光学的研究具有十分重要的意义。该波段要求镀膜过程中能减小界面扩散,实现膜厚控制,从而严格限制了制备技术的应用。介绍了软X射线短波段多层膜的发展现状和制备技术,主要包括蒸发沉积、溅射沉积、脉冲激光沉积技术和激光分子束外延,对这些方法进行了比较并提出了今后的研究方向。
DOI
kd20leee46/771138
作者
雷洁红;邢丕峰;唐永建;吴卫东
机构地区
不详
出处
《材料导报:纳米与新材料专辑》
2009年1期
关键词
软X射线多层膜
表面粗糙度
制备技术
分类
[一般工业技术][材料科学与工程]
出版日期
2009年01月11日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
材料导报:纳米与新材料专辑
2009年1期
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