断层腭组织瓣—暴露上颌种植体恢复角化组织的外科方法:技术与临床结果

(整期优先)网络出版时间:2000-01-11
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现已公认知识如果骨内种植内周围有足够的角化粘膜,则在软组织与种植体处可形成更理想的功能性界面。本文目的是描述用外科手术的方法,即断层腭组织瓣,在暴露种植体时形成或增加种植体周围的角化组织。本方法尤其适用于上颌种植体颊侧无或有很少的角化组织。本研究包括8位病人34颗上颌种植体,在种植体暴露前无或只有很少的颊侧角化龋。愈合后,所有愈合基台的颊侧均有2-5mm宽的角化龈(平均3.7mm)。术后不适感很小。在种植体暴露时,应用断层皮瓣减少了手术所需的步骤及部位,并能形成足够的颊侧角化龈。