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摘要：研究了光刻机曝光过程中，热效应引起焦平面发生漂移的原因，并对热效应过程进行分析，通过光照时间与冷却时间的关系对应焦平面漂移关系，及时进行焦平面补偿，以及对成像系统进行温度控制，可对焦平面漂移进行有效控制
关键字：热效应；光刻机；焦平面漂移
随着TFTLCD技术的不断发展，显示性能不断提高，TFT产品性能逐步向高清化转变,高分辨率、高响应速度产品日趋主流化，TFT结构单元的走线设计也必然越来越密集，这就对光刻机曝光焦平面提出了更高要求，当产品线宽接近光刻机分辨率时，曝光单元是否能精确的处于聚焦平面上，将严重影响产品的关键尺寸，偏离焦平面，则光刻图案易产生失焦（图（1）、图（2）），从而影响产品的关键尺寸，产品关键尺寸偏离控制目标值，直接影响TFT产品的光学电学性能[1]。
光刻机进行光刻时，虽然光刻机采用了调焦调平技术[2]，保证每次光刻区域处均于光刻机焦平面范围内，但由于投影物镜受到光照的影响，光刻物镜产生热效应，从而引起光刻机焦平面发生飘移，使得在光刻机调焦调平系统的运行下，仍然出现产品失焦情况，本文以canon6G光刻机为例，分析了投影物镜热效应引起焦平面漂移的原因，并提出了相应的控制方法，可有效避免产品失焦风险。
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