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  • 简介:目前最先进的半导体制程是28nm,但已经有很多公司正在进行20nm甚至是16nm的研发。半导体产业面临很多挑战,比如设计尺寸和工艺窗口越来越小,对工艺控制要求越来越高。以往的半导体制程是平面的2D制程,现在3D的工艺,比如FinFET正在走人大家的视线,制程的控制越来越难。在未来的3—4年里,DRAM和Flash也会有很多的创新,这对半导体检测和量测设备业者而言,除了带来庞大的商机外,更提出了新的要求。

  • 标签: 半导体制程 技术服务 标准 客户 工艺窗口 FINFET
  • 简介:概述了我任《印制电路信息》杂志主编20牟的某些过程。国家级杂志必须执行其相应的要求与规定。要有“奉献”精神和克服困难的勇气就能取得成果。提出和实行把《印制电路信息》杂志办成工程技术型杂志。《印制电路信息》杂志的主体内容是刊登PCB等行业中的具体“项目工程”和“产品生产”中的技术研究过程(实验与结果、试用效果,或者新工艺、新方法,或者创新产品等)、提高生产效率或改进产品质量取得并经济效益和社会效果等方面的文章/论文。同时指出,对工程技术型的杂志和文章论文的水平应从工程与生产的技术研究的角度进行评价!

  • 标签: 《印制电路信息》 奉献精神 工程技术型 评价角度