简介：TB4397063840含n≈k超薄金属膜的周期对称膜系的性质及窄带高反膜设计=Characteristicsofperiodicsymmetricalmultilayercoatingsincludingultrathinmetallicfilmofn≈kanddesignofahigh-refIectivityreflectionfilterwithnarrowbandwidth[刊,中]/谭满清,林永昌,赵达尊(北京理工大学.北京(100081))

简介：高能硫、氪、氙离子轰击聚酯(PET)和聚碳酸酯(PC)膜后，对样品进行陈化和紫外线照射敏化．用电导法着重研究蚀刻条件对样品的归一亿径迹蚀刻速率(灵敏度)的影响，结果表明优化条件下灵敏度较通用条件下提高约2倍，PET的灵敏度可达1000，PC的灵敏度可达2000，可以用于制备纳米孔径核孔膜．核孔膜中填充的铜纳米线的电镜照片显示出纳米线最小直径为20nm．用电导法计算纳米孔的孔径，该值与纳米线直径的电镜测量值在孔径大于30nm时符合良好．

简介：薄膜厚度的测量通常有多种方法，但对超薄的膜厚，要达到较高精确度，且测量手段又较为简洁的，则椭偏仪法是理想的选择。本文对这种测量材料膜厚的光学方法从基本原理、仪器特点、测量过程、样品状态等方面，均作了全面的分析。

简介：不对称蚀刻法的分桥表明，在灵敏度不变时可以得到小孔径核孔膜。实验显示，由于孔径不均匀现象的制约，核孔膜的孔径可减小到1／2。温度梯度蚀刻法的分桥表明，导通时间的减小与膜两面的温度差成正比，在实际条件下孔径减小到1／5。模拟计算表明，采用该方法可得到控状孔核孔膜，但蚀刻过程很难控制。

简介：由于终端光学组件在整个金工装配过程中必须做到洁净无损运输，现场洁净无损精确安装，才能达到实验所需要求。终端光学组件的重量800kg，目前安装到靶室的终端光学组件共有8套，所以整个终端光学组件精密装校时间长，危险性大。

简介：O484.42003021190稀土Nd,Ce掺杂硅基薄膜光致发光特征=PhotoluminescencepropertiesinNd,Ce-implantedSi-basedfilms[刊,中]/元美玲(南昌大学物理系.江西,南昌(330047)),刘南生…//发光学报.—2002,23(3).—291-295测量了Nd,Ce稀土离子注入Si基晶片,在不同离子注入剂量、不同退火条件下的室温光致发光(PL)谱,结果表明它们均具有蓝、紫发光峰,且发光稳定。在一定范围内发光效率随掺杂浓度的增加而增大,随退火条件的不同而改变。运用原子力显微镜(AFM)对样品的表面形貌进行了观察,结果显示,样品表面颗粒大小、粗糙度将影

简介：O484.12002042806溅射方法生长的氧化锌薄膜的阴极射线和光致发光特性=GrowthandCL/PLemissionpropertiesofZnOfilms[刊,中]/林碧霞,傅竹西,贾云波(中国科技大学结构分析开放实验室.安徽,合肥(230026)),廖桂红(中国科技大学物理系.安徽,合肥(230026))∥发光

简介：O484.12003053737铌酸锶钡薄膜的微结构与电光性能的研究=Microstructureandelectroopticalpropertiesofstrontiumbariumniobatethinfilm[刊,中]/叶辉(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室.浙江,杭州(310027)),MelanieMTHo…//光学学报.-2002,22(10).-1170-1175叙述了使用溶胶-凝胶法在MgO(001)的衬底上制备铌酸锶钡薄膜的过程,膜层厚度可达5μm。通过X射线衍射、摇摆曲线、(?)扫描、喇曼散射光谱等方法研究了薄膜的微结构性能,实验发现,铌酸锶钡薄膜具有了较好的

简介：O48499010375短通长截止滤光膜边限点的漂移=Boundarylimitedpointshiftofshort--passandlong-cut-offfilterfime[刊,中]/王宪民(云南光学仪器厂第三分厂.云南,昆明(650114))//云光技术.—1997,29(5).—20-23叙述了短波通、长波截止滤光膜截止边限点的漂

简介：TQ171．652005032360利用计算机辅助装调检测矩形大口径离轴非球面的方法研究=Studyontestingmethodsoflarge-aperturerectangleoff-axisasphericalsurfacewithcomputeraidedalignment[刊,中]／杨晓飞(中科院长春光机所．吉林,长春(130022)),韩昌元∥光学技术．-2004,30(5)．-532-534通过非球面的零位补偿法,完成了对矩形大口径离轴非球面镜的检测。先用光学设计软件Zemax从理论上分

简介：用离子束技术探讨了Si表面纳米Ti薄膜制备的可行性以及Ti薄膜组织结构与离子束工艺之间的关系。实验进行试样表面预处理、轰击离子能量、离子密度、温度、沉积时间等离子束工艺参数对单晶Si(111)表面沉积的Ti薄膜结构的影响。采用原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)分析了Ti膜表面晶粒形貌，并用X射线衍射仪(XRD)和俄歇电子谱仪(AES)分析了Ti膜的结构和成分。由于残余气体的影响，Ti膜发生了不同程度的氧化，随温度升高和轰击离子强度增加氧化愈加明显。

简介：主要研究了在ＴｉＯ２薄膜上光催化降解有机磷废水。结果表明，镀膜基片不同、光催化时间不同、ＴｉＯ２晶型不同均对降解速率有影响。感兴趣的是可以利用太阳紫外光降解有机磷废水。更多还原

简介：高功率固体激光装置对KDP晶体光学元件的基本要求是大口径、高精度面形质量、高激光损伤阈值、良好的表面粗糙度。但是KDP晶体本身具有质软、易潮解、脆性高、对温度变化敏感、易开裂等一系列不利于光学加工的特点，传统的研磨抛光法不适于加工高精度的大口径KDP元件。国外加工此类元件已广泛采用先进的单点金刚石车削技术（简称SPDT）。采用SPDT技术加工KDP晶体元件，主要存在3个方面的加工误差，即晶体的面形误差、表面粗糙度（包括表面疵病）以及小尺度波纹等。

简介：针对离轴TMA结构空间相机中使用的两块离轴非球面反射镜的加工过程,提出了一种新型的矩形轴非球面的最接近球面半径的求解及其优化方法,并且开发了基于计算机虚拟加工技术的CC()S工艺参数计算方法。被加工工件分别为165mm义100mm的矩形凸面

简介：通过浸渍法在中孔γ－Ａｌ２Ｏ３膜上制备出Ｖ－Ｐ－Ｃｏ－Ｃｅ－Ｏ多组分金属氧化物催化膜，将之应用于非燃料电池型催化膜反应器并研究其可行性及正丁烷制顺丁烯二酐的反应特性。考察了反应温度、空速和吹好气流速对催化活性的影响，对膜反应器的稳定性也进行了简单的测试。实验证明，与固定床相比，膜反应器具有更高的反应转化率和选择性。

简介：TQ171.6897010633玻璃与GaAs外延片热压粘结工艺研究=ThestudyofGaAsexpitaxialplatethermocom-poressionbondedtoglasstechnology[刊,中]/赛小峰,张书明,高鸿楷,侯洵(中科院西安光机所半

简介：目前数控车削回转曲面的加工及检测需要由三坐标测量机多次检测来实现，而一般机械加工车间的数控车削设备与三坐标测量机常常是多对一的配置关系，易造成待检产品在三坐标测量机处积压，消耗过多无效时间，影响产品的制作周期。另外，产品检测需从机床上卸下，检测后需重新找正装夹，这样即延长了加工的辅助时间，又增加了误差的可能性。针对此现状本项研究的目的是将三坐标的检测原理应用到数控车床上，利用机床自身的坐标系统进行数据采样，在加工误差于允许的范围内，在不进行重复装夹的前提下完成数控车削回转曲面的现场检测。具体方案为接触式检测法，该方法采用不带压力或位移传感器的机械式球形测头进行数据采用，测头表面与工件表面的接触状况用弱电流电路通过发光二极管显示，

简介：激光焊接是利用激光熔化母材本身金属来填充焊缝，因此激光焊缝表面没有余高，并有少许凹陷，由于构件结构的特殊性，有关技术要求焊缝的焊接深度仅为16mm，焊缝宽度不得大于6mm，而实际上焊缝区域的母材厚度约为6-12．5mm变化，焊缝尺寸相对于母材厚度很小，造成焊缝在底片上形成的影像不明显。简体内部密封并以其他材料填充，在进行射线检测时射线不可能采取双壁单影法透照对焊缝实施检测，只能采用单壁单影的透照方法。另外，靠近简体内侧加工有工艺弧度，在射线透射方向上母材厚度有很大变化，

简介：为了在虚拟的环境中进行产品的装配工艺规划，必须建立一个虚拟装配系统，这就涉及到虚拟装配的建模问题。虚拟装配系统的建模应当包括从模型的数据源——CAD系统提取数据以及数据在虚拟装配（VR）系统中的组织两个方面的问题。下面分别从CAD与VR系统模型的异同、信息转换、虚拟装配系统的模型描述、装配特征等几个方面来描述。

简介：小工具数控抛光技术已成为ICF大口径光学元件制造的主工艺技术，由于这种工艺技术使用了比被加工元件外形尺寸小得多的抛光磨头来进行加工，所以被加工表面将呈现出不同于传统方法加工表面的特征。与传统抛光技术相比，被加工表面的某些频率成分可能增加，可能会对光学系统带来不良的影响。