简介：基于DWPI数据库,通过检索、统计和分析国内外CMP抛光垫技术专利申请文献,分析CMP抛光垫技术领域的研究现状,归纳总结CMP抛光技术的研究方向和研究结论,并展望CMP抛光垫技术的发展趋势。

简介：本公司针对抛光粉传统生产方法中生产周期长,产品在使用时不易分散等缺点,进行了较长时间的研究,结果表明:新方法具有粒度可控制,煅烧后不需湿法研磨,不需湿法筛分等优点。并且,可不用电炉煅烧。这一方法

简介：　　摘要：液晶面框模具主要向蒸汽镜面模具方向发展， 蒸汽模镜面抛光的应用越来越广泛。本文详细说明了凹模镜面抛光的基本程序及注意要点。

简介：摘要自动抛光机在实际应用过程中，可以根据已下达的指令，完成抛光工艺的一系列操作，这样不仅有利于提高抛光效率，而且还能够保证抛光质量。本文针对自动抛光机的具体设计情况进行分析，并且对抛光结构的受力情况进行研究，为自动抛光机的实际应用效果提供有效保障。

简介：目前大米抛光机在国内应用已十分广泛,而如何减少增碎,提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题。在这里就影响大米抛光机抛光效果的因素作进一步分析,供大家参考。

简介：本文主要论述了陶瓷抛光废渣循环利用的新技术。将陶瓷抛光废渣作为高档釉面砖坯体的主要原料（加入量为16％～22％），通过采用“特定阶段延长烧成时间、缩小素烧与釉烧温度差、调高底釉熔融温度、调高面釉高温粘度”的适应性工艺，从而达到较大量掺入抛光砖废渣生产釉面砖的目的。

简介：现有的抛光砖生产工艺由于在抛光阶段会产生大量的废渣．很难直接回收利用．从而对周边环境造成极大的破坏。其中抛光废渣中含有氯氧镁水泥等杂质是造成抛光废渣直接回收利用时产生坯体膨胀、针孔、变形等缺陷的最重要原因。针对现有的抛光砖在抛光阶段产生大量的废渣难于直接回收再用的难题，本文提出了分类回收、自然沉降、分开使用的最优处理思路，创新性地丰富了抛光废渣回收领域的技术内涵。

简介：摘要：随着我国核电技术不断发展，人们对降低核电厂员工辐照含量关注度日益增加。在核电设备中应用电解抛光技术，可以极大的减少再循环管道内放射物积聚的表面积，同时不影响材料性能，该工艺至少能减少再循环系统管道的放射物积聚达2-3倍。因此本文对电解抛光技术进行了深入的探讨，以供参阅。

简介：摘 要：随着人们对墙面装修的材料的要求也在不断变化，抛光砖近几年也被作为墙面砖广泛使用，但由于抛光砖自身特性，作为墙面砖在湿贴过程中，易产生大面积空鼓现象，现结合工程实例对其空鼓防治技术进行介绍。

简介：摘要为了抑制抛光粉纳米颗粒的团聚，改善抛光液的性能，使光学玻璃获得更高的抛光速率与更低的表面粗糙度，在氧化铈抛光液中添加阴离子表面活性剂梅迪兰，研究了梅迪兰质量分数对抛光液中粒子粒径、分散性以及材料去除率和抛光后光学玻璃表面粗糙度的影响。

简介：摘要：伴随着摩尔定律的发展，集成电路（以下简称IC）的发展经历了从小规模集成电路(SSI)、中规模集成电路（MSI）、大规模集成电路（LSI）、甚大规模集成电路（VLSI） 直至今天的超大规模集成电路（ULSI）、巨大规模集成电路（GSI）。根据国际半导体技术路线图（ITRS）的规定，集成电路工艺水平是通过技术节点来衡量。技术节点通常以晶体管的半节距 （half-pitch） 或栅极长度（gatelength）等特征尺寸（CD，critical dimension）来表示 。在进入 ULSI 时代以后，横向空间的饱和，促使 IC 制造向垂直空间发展；向垂直空间发展的思路促使多层金属互连技术的出现。而多层金属互连技术的出现导致 IC 制造过程中不可避免的在层与层之间产生台阶，层数越多表面起伏愈加明显。明显的表面起伏主要有两方面的影响产生，一方面金属布线中容易导致断线、短路、断路，另一方面导致光刻时对线宽失去控制。

简介：详细阐述了超声波振动抛光的机理,同时给出了模具型腔超声波振动抛光的操作要点、要求以及它的优缺点.

简介：

简介：摘要介绍大米抛光的原理及原因，分析大米抛光的利弊。

简介：摘要宝石（Sapphire）是一种氧化铝（α-Al2O3）的单晶，又称为刚玉。蓝宝石单晶具有熔点高(2040℃)，硬度高(莫氏硬度9)，化学性能稳定，电绝缘性好，具有良好的热特性、极好的电气特性和介电特性，特别是具有优良的红外透过率等特性。在半导体领域中，主要是使用蓝宝石作为制备GaN薄膜的衬底，它与GaN之间的晶格常数失配率小，是目前最主要的GaN外延基片材料之一。

简介：为解决传统的气囊抛光操作都需要工件CAD信息所引起的抛光效率低下、操作复杂等问题，现将一种能够在线自动重构工件几何信息技术应用到机械臂气囊抛光系统中。介绍了抛光工件未知曲面在线重构的操作方法，从而获取工件未知曲面的法矢量，提出了抛光气囊头与工件未知曲面接触力的主动控制方案，将传统的力/位并行控制算法模拟人的大脑，试着去识别工件表面的几何变化趋势，建立了具有时变约束的在线最优轨迹规划算法。通过在机械臂气囊抛光实验设备中对一未知几何信息的工件进行了自动抛光操作，对抛光效果和抛光过程中的接触力进行了实验对比和数据分析。结果表明，该策略在应用改进的力/位并行控制算法跟踪和识别一个未知的抛光工件曲面是可行、有效的。

简介：摘要：连杆作为发动机的关键核心零件之一，其加工精度和表面质量对使用有很大的影响。由于连杆装在曲轴箱内，其表面清洁程度对整机清洁度也有较大的影响。本文应用自由滚磨技术，设计了连杆抛光机；其目的是综合提高连杆表面外观质量，改善物理力学性能，降低表面粗糙度值，提高表面硬度和耐磨性，从而提高发动机的使用寿命。

简介：摘要：为了改善铍青铜试样表面的抛光效果，解决传统机械抛光划痕深浅不一问题，我们研制了一种全新的抛光工艺——电解抛光。电解抛光工艺与溶液浓度、时间、电压等参数密切相关，合理控制与这些工艺参数才能达到理想的抛光效果。

简介：摘要：本文全面探讨了石英晶片抛光工艺的关键要点，包括抛光前的质量要求、抛光工艺流程、抛光所用材料与设备，以及抛光参数的选择与控制。通过分析抛光过程中遇到的常见问题及其解决策略，旨在为实现石英晶片的高效和高质量抛光提供理论指导和实践参考。通过精细控制抛光参数和优化抛光过程，可以有效提高晶片的表面平整度和减少表面粗糙度，从而满足半导体、光电通讯、精密仪器等领域对高质量石英晶片的需求。

简介：从传统光学冷加工的原理出发，分析了传统接触式加工方法中抛光剂与材料去除深度的理论关系，设计了微晶玻璃超光滑抛光过程中的抛光剂选型试验。通过比较基片的表面质量，摸索出适合微晶玻璃超光滑抛光的最佳抛光剂为金刚石微粉，成功加工出了超光滑微晶光学元件，其表面粗糙度达到0．2nm。