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金刚石薄膜光学
镀层
材料的应力特性研究
作者:
王小兵;程勇;吕反修;王古常;孙斌;吝君瑜;杨武保
学科:
机械工程
>
光学工程
创建时间:2003-01-11
出处:
《光学与光电技术》
2003年第1期
简介:
金刚石膜作为光学
镀层
时,应力的控制是一项关键技术,本文实验研究了金刚石膜和类金刚石膜作为光学
镀层
材料时的应力特性,并对此进行了分析.
标签:
金刚石膜
光学镀层
MPCVD
PLD
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金刚石薄膜光学
镀层
材料的应力特性研究
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镀层
材料的应力特性研究
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