简介：摘要为了抑制抛光粉纳米颗粒的团聚，改善抛光液的性能，使光学玻璃获得更高的抛光速率与更低的表面粗糙度，在氧化铈抛光液中添加阴离子表面活性剂梅迪兰，研究了梅迪兰质量分数对抛光液中粒子粒径、分散性以及材料去除率和抛光后光学玻璃表面粗糙度的影响。

简介：摘要：在确保温度控制的同时，需要对影响温度的一些因素进行解决，来有效增加抛光液的温度控制。本文针对了光学冷加工抛光液温度控制系统原理进行分析，通过提出了抛光表面损伤检测、抛光去损伤机理、加工表面损伤改善三项控制系统的研究，证明了光学冷加工抛光液温度控制系统的重要性。

简介：[摘要]化学机械抛光(CMP)，属于集成电路总体制造当中获取全局内平坦化的技术手段，主要是为获取平坦、无玷污、无杂质、无划痕等表面所专门设计的一项技术工艺，为更进一步了解其对光学玻璃的微观材料整个去除机制情况，本文主要探讨光学玻璃制造当中CMP处理微观材料的去除机制，仅供业内参考。

简介：建立电磁发生器和磁性研磨刷数学模型,在此基础上运用Ansoft仿真分析软件构建仿真模型,对用于光学玻璃磁性研磨加工的电磁发生器进行磁场的仿真分析,设计及制造出电磁发生器,并应用于磁性研磨实验,实验表明：光学玻璃表面粗糙度,随着磁感应强度增大,逐渐减小。

简介：摘要自动抛光机在实际应用过程中，可以根据已下达的指令，完成抛光工艺的一系列操作，这样不仅有利于提高抛光效率，而且还能够保证抛光质量。本文针对自动抛光机的具体设计情况进行分析，并且对抛光结构的受力情况进行研究，为自动抛光机的实际应用效果提供有效保障。

简介：目前大米抛光机在国内应用已十分广泛,而如何减少增碎,提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题。在这里就影响大米抛光机抛光效果的因素作进一步分析,供大家参考。

简介：现有的抛光砖生产工艺由于在抛光阶段会产生大量的废渣．很难直接回收利用．从而对周边环境造成极大的破坏。其中抛光废渣中含有氯氧镁水泥等杂质是造成抛光废渣直接回收利用时产生坯体膨胀、针孔、变形等缺陷的最重要原因。针对现有的抛光砖在抛光阶段产生大量的废渣难于直接回收再用的难题，本文提出了分类回收、自然沉降、分开使用的最优处理思路，创新性地丰富了抛光废渣回收领域的技术内涵。

简介：基于DWPI数据库,通过检索、统计和分析国内外CMP抛光垫技术专利申请文献,分析CMP抛光垫技术领域的研究现状,归纳总结CMP抛光技术的研究方向和研究结论,并展望CMP抛光垫技术的发展趋势。

简介：TQ174.758.2399053410半导陶瓷的红外吸收谱和喇曼散射谱=InfraredabsorptionandRamanscatteringspectraofsemiconductingceramics[刊,中]/胡绪洲,杨爱明,胡晓春（云南大学物理系.云南,昆明（650091））//半导体学报.—1998,19（7）.—503—509ZrO2.SiO2.P2O5半导陶瓷是由ZrO2、SiO2和H3PO4用高温同相反应制成。它的傅里叶红外吸收谱是

简介：O431．22006064803GHZ类态原子体系与Fock态光场相互作用的动力学=DynamicsofentangledatomsinGHZstatesinteractingwiththeFockstatefield[刊,中]/方曙东(池州师范专科学校物理系．安徽,池州(247000)),曹卓良//量子电子学报．—2006．23(2)．—197—202采用求解Schr(?)dinger方程和数值计算的方法,研究了处于GHZ类态的三个全同二能级纠缠原子与Fock态光场相互作用的动力学特性,讨论了原子布居算符和光场的二阶相干度与三原子体系初始态的纠缠度、Fock态光场

简介：TQ174.758.2396032015掺杂Cr2+和Nd3+玻璃陶瓷的光谱特性=SpectroscopiccharacteristicsofCrandNddopedglass-ceramics[刊,中]/端木庆铎,苏春辉（长春光机学院材料工程系.吉林,长春（130022））//功能材料.-1995,26（1）.-48-51根据分相成核原理,通过一步热处理过程,制备了双掺杂B2O2-Al2O3-SiO2系统透明玻璃陶瓷。XRD分析确定主晶相为莫来石固溶体;分别测定了材料的吸收光谱、发射光谱和荧光寿命,分析讨论了铬和钕格位分布及光谱特点。图5表1参7（赵桂云）TQ325.796032016光学塑料的性能评价、应用及改性研究=Propertyevaluations,applicationsandmodificationstudiesofopticalplastics[刊,中]/杨柏,高长有,沈家骢（吉林大学化学系.吉林,长春（130023））//功能

简介：TH7032005031635MOCVD-Ga0.4In0.6As0.85P0.15／InP分布布喇格反射镜的反射率=ReflectivityofMOCVD-Ga0.4In0．6AS0．85P0．15／InPdistributedBraggreflectors[刊,中]／蒋红(中科院长春光机所激发态物理重点实验室．吉林,长春(130033)),金亿鑫…∥发光学报．-2004,25(6)．-686-690采用MOCVD方法,获得高质量的InP和较高质量的GaxIn1-xAsyP1-y外延层,通过GaxIn1-xAsyP1-y／InP交替生长制备出在工作波长为1．55μm时具有较高反射率的分布布喇格反射镜。根据光在多层介质膜中传播的传递

简介：

简介：摘要介绍大米抛光的原理及原因，分析大米抛光的利弊。

简介：摘要光学是研究光的基本性质，光的产生、传输、接受、显示及光与物质相互作用的科学。仅考虑光的传播问题时，光学有两大分支几何光学与波动光学。几何光学就是不考虑光的波动性以及光与物质的相互作用，只是以光线概念为基础，根据以实验事实建立的光的直线传播定律、反射定律、折射定律，通过三角计算、矩阵运算或几何作图法来讨论物体经光学系统的成像问题。在本文中，笔者就简单论述一下基础光学中的几何光学，希望能给我们的教学带来帮助。

简介：TN2522005021201光波导计算中全矢量-罚项有限元方法新解=Physicalbackgroundofpenaltymethodinfullvectorfiniteelementmethodformodelingofopticalwaveguide[刊,中]／曹共柏(上海微系统与信息技术所离子束开放实验室．上海(200050))．林志浪…//量子电子学报．-2004,21(5)．-658-664在传统的罚项节点有限元方法的启发下,从麦克斯韦方程组本身的物理意义出发,导出了伪模的产生源,并对

简介：TN252005010333集成光学国际研究进展=Developmentofinternationalintegratedoptics[刊,中]／张彤(东南大学电子工程系.江苏,南京(210096)),崔一平∥电子器件．-2004,27(1).-196-201介绍了集成光学基本概念及其主要应用领域,分析了集成光学国际研究现状。在理论研究方面,对新型器件的设计、计算和模拟以及基于固体物理学和波动光学的基础理论研究是目前研究热点;而在器件研究方面,通信及传

简介：摘要宝石（Sapphire）是一种氧化铝（α-Al2O3）的单晶，又称为刚玉。蓝宝石单晶具有熔点高(2040℃)，硬度高(莫氏硬度9)，化学性能稳定，电绝缘性好，具有良好的热特性、极好的电气特性和介电特性，特别是具有优良的红外透过率等特性。在半导体领域中，主要是使用蓝宝石作为制备GaN薄膜的衬底，它与GaN之间的晶格常数失配率小，是目前最主要的GaN外延基片材料之一。

简介：本公司针对抛光粉传统生产方法中生产周期长,产品在使用时不易分散等缺点,进行了较长时间的研究,结果表明:新方法具有粒度可控制,煅烧后不需湿法研磨,不需湿法筛分等优点。并且,可不用电炉煅烧。这一方法

简介：摘要：为了改善铍青铜试样表面的抛光效果，解决传统机械抛光划痕深浅不一问题，我们研制了一种全新的抛光工艺——电解抛光。电解抛光工艺与溶液浓度、时间、电压等参数密切相关，合理控制与这些工艺参数才能达到理想的抛光效果。