简介：过去多年以来，在减少氟化物的排放方面，半导体业行业一直处于领先地位。在气相沉积反应器清洗上，人们研究了许多替代性的的气体和工艺方法，但是，由于这些原料供应短缺，或者需要用高压钢瓶运输，或者有造成显著的温室效应的可能，所以这些方法都不是很理想。

简介：

简介：

简介：AComputationalStudyofGasPhaseChemistryinCarbonNanotubeSynthessbyPECVD;AfieldpointbasedapproachforsensorconditioninginMO-CVDreactors;AMethodforReal-TimeControlofThinFilmCompositionUsingOESandXPS;Amechanism-basedmodelofchemicalvapordepositionofepitaxialSi{sub}(1-x)Ge{sub}xflirts

简介：SY509-3-196[篇名]Anovelstrainedsurface-channelpMOSFETSi{sub}0.7Ge{sub}0.3withanALDTiN/AI{sub}20{sub}3/HfAIO{sub}x/AI{sub}20{sub}3gatestack；SY509-3-197[篇名]Aquantitativestudyofthenano-scratchbehaviorofboronandcarbonnitridefilms；……

简介：[篇名]1.55-umsilicon-basedreflection-typewaveguide-integratedthermo-opticswitch,[篇名]120×90ElementThermoelectricInfraredFocalPlaneArraywithPreciselyPatternedAu-blackAbsorber,[篇名]4H-SiCEpitaxialGrowthfcrHigh-PowerDevices,[篇名]A90nmgenerationcopperdualdamascenetechnologywithALDTaNbarrier,[篇名]Acomparativemicrotribologicalinvestigationofdiamond-likecarbonfilmsforapplicationsinmicrosystems,[篇名]Acomparisonofmicrocrystailinesiliconpreparedbyplasma-enhancedchemicalvapordepositionandhot-wirechemicalvapordeposition:electronicanddeviceproperties.

简介：

简介：

简介：摘要 ：化学气相沉积法（ CVD ）制备石墨烯广泛应用于工业生产中，但转移薄膜的过程会造成石墨烯污染，对石墨烯性能产生影响。基于此，本文先分析了污染物对石墨烯薄膜造成的影响，然后简单介绍了污染物，最后提出了提高石墨烯洁净度的技术。以期不断提高石墨烯洁净度，提高其质量和性能。

简介：SY509-3-202[篇名]Influenceofthetemperaturedistributiononchemicaldepositionininternalproblems；SY509-3-203[篇名]ManufacturingReliableUnlaededViasWithoutCVDBarrierLayers；……

简介：

简介：1.研究意义自在大洋和海槽中观察到热水沉积成矿作用以来,该作用已引起人们的广泛关注并成为地球化学、矿床学和沉积学的新理论生长点之一。各国学者虽已用将今论古的方法研究了现代及地史时期的热水沉积矿床,积累了一大批数据,但还缺乏一套有效的地质地球化学判别标志。近年来,我国学者在滇西发现了陆相热水沉积矿床,但尚未进行系统的研究;海、陆相热水

简介：采用化学气相沉积法（chemicalvapordeposition，简称CVD）不仅可以制备金属粉末，也可以制备氧化物、碳化物、氮化物等化合物粉体材料。该法是以挥发性的金属卤化物、氢化物或有机金属化合物等物质的蒸气为原料，通过化学气相反应合成所需粉末，因其制备的粉末纯度高，比表面积大，结晶度高，粒径分布均匀、可控，在粉体材料制备方面的应用日趋广泛。该文主要介绍CVD技术制粉的形成机理和研究进程。CVD法制粉主要包括化学反应、晶核形成、粒子生长以及粒子凝并与聚结4个步骤。按照加热方式不同，CVD技术分为电阻CVD、等离子CVD、激光CVD和火焰CVD等，用这4种技术制备超细粉末各有其优缺点，选择合适的气源，开发更为安全、环保的生产工艺，以及加强尾气处理是使CVD法制备超细粉体材料付诸于工业应用的重要保证。

简介：摘要沉积相是沉积物的生成环境、生成条件和其特征的总和，成分相同的岩石组成同一种相，在同一地理区的则组成同一组。遗迹相是代表特定的沉积相或指示一定的古沉积条件的特有的遗迹化石组合。本篇报告主要讲述了沉积相的命名、概念、分类以及沉积相模式，遗迹相的概念、遗迹相的特征及古环境等的内容。

简介：采用金属有机化学气相沉积法在Si（111）衬底上生长了AlN外延层。高分辨透射电子显微镜显示在AlN／Si界面处存在非晶层，俄歇电子能谱测试表明Si有很强的扩散，拉曼光谱测试表明存在Si-N键，另外光电子能谱分析表明非晶层中存在Si3N4。研究认为MOCVD高温生长造成Si的大量扩散是非晶层存在的主要原因，同时非晶Si3N4层也将促使AlN层呈岛状生长。

简介：以水合氯化钌和乙醇钠为原料，首先制备了乙醇钌的乙醇溶液。通过对乙醇钌的乙醇溶液进行雾化，以2：1的氮氧比为载气，在400℃常压条件下沉积了RuO2薄膜。采用XRD和AFM分别表征了薄膜的结构及表面形貌，证实了Ru02薄膜的晶体结构，晶粒尺寸为21．4nm。通过电化学测试，RuO2薄膜的容量可达0．818F／cm2（549F／g），充放电性能良好。经1000次循环测试，剩余容量仍然可达到初始容量的92．1％，同时发现RuO2薄膜具有较低的阻抗，有利于薄膜电容器以大电流快速充放电。

简介：以ＴｉＣ１４为源物质采用常压化学气相沉积法制备了ＴｉＯ２薄膜。用紫外光谱测定了膜的透过率，进而计算出折光率、消光系数、光学带隙能等光学参数。结果发现，在不同气流量、沉积温度为１００～２５０℃的条件下制备的ＴｉＯ２膜，其折射率在２．１６～２．８２范围内，消光系数在０．０４×１０－３～６．７０×１０－３范围内，光学带隙能在２．８～３．０８ｅＶ范围内。在光催化作用下，ＴｉＯ２膜用于处理苯酚溶液，苯酚的转化率高达５４．０５％。关键词##4化学气相沉积（ＣＶＤ）;沉积率;折光率;消光系数;光催化更多还原

简介：摘要：河流相沉积是一种重要的陆源沉积，对于水文地质研究以及煤炭、油气的勘探开发具有重要的意义。本文在河流的沉积过程、河流的类型以及沉积模式的分析基础上，研究了河流相沉积的岩性、构造、生物化石等特征，为深入认识和研究河流相沉积提供了参考和支撑。

简介：静压法合成的单晶人造金刚石和人造金刚石微粉，就品种，技术条件，包装，杂质检验，抗压强度测定方法，粒度组成等有关问题，已经建立了国家标准。化学气相沉积法制取的金刚石膜因出现的时间短还未建立起有关标准。化学气相沉积金刚石膜的方法有热丝法，微波法和直流电弧等离子体喷射法三类，本文就直流电弧等离子体喷射化学气相沉积的自支撑人造金刚石膜标准的制定中应考虑到的一些问题提出了我们的看法。

简介：摘要：科技的发展，推进了工业生产，各类复合材料相继出现，为各行各业生产经营提供了有效支持。本文主要讲述了化学液气相沉积机理，并概括性总结了当前国内外此工艺的研究进展。