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  • 简介:介绍了在软X-射线显微术研究领域中有重要应用的Si3N4薄膜窗口的实验室制作方法,并形成一套独特制备工艺,Si3N4薄膜窗口的研制成功推动了我国软X射线显微术研究的发展。

  • 标签: 软X射线显微术 Si3N4薄膜窗口 LPCVD 等离子体刻蚀