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  • 简介:针对"FBAR(薄膜声波谐振)-梁"结构悬臂梁厚度不足、"嵌入式FBAR"结构微加工工艺复杂的缺点,提出了新型"膜片上FBAR(FBAR-on-diaphragm)"结构的微加速度计。其弹性膜片由氧化硅/氮化硅复合薄膜构成,既便于实现与硅微检测质量和FBAR的IC兼容集成加工,也利于改善微加速度计的灵敏度和温度稳定性。对由氧化硅/氮化硅双层复合膜片-硅检测质量惯性力敏结构和氮化铝FBAR检测元件集成的膜片上FBAR型微加速度计进行了初步的性能分析,验证了该结构的可行性。通过有限元模态分析和静力学仿真得出惯性加速度作用下膜片上FBAR结构的固有频率和弹性膜片上的应力分布;选取计算所得的最大应力作为FBAR中压电薄膜的应力载荷,结合依据第一性原理计算得到的纤锌矿氮化铝的弹性系数-应力关系,粗略估计了惯性加速度作用下氮化铝薄膜弹性系数的最大变化量;采用射频仿真软件,通过改变惯性加速度作用下弹性常数所对应的纵波声速,对比空载和不同惯性加速度作用下加速度计的谐振频率,得到加速度计的频率偏移特性和灵敏度。进一步分析仿真结果还发现:氧化硅/氮化硅膜片的一阶固有频率与高阶频率相隔较远,交叉耦合小;惯性加速度作用下,谐振频率向高频偏移,灵敏度约为数kHz/g,其加速度-谐振频率偏移特性曲线具有良好的线性。

  • 标签: 微电子机械系统 薄膜体声波谐振器 微加速度计 灵敏度
  • 简介:利用数值方法计算了磁绝缘线振荡(MILO)主慢波结构谐振腔和扼流腔的谐振频率和场分布,得出慢波结构谐振谐振频率的一些变化规律:随着叶片内半径的增大、叶片外半径的减小、叶片周期的减小以及叶片间距的减小,谐振腔TM01模式截止频率升高;而阴极半径的变化对截止频率几乎无影响。当主慢波结构腔内半径为4.6cm,扼流腔内半径为4.2cm,阴极半径为3cm时,MILO工作在3.“4.4GHz频率范围,扼流片可以阻止微波功率向脉冲功率源泄漏,这有利于提高器件微波输出的效率;

  • 标签: 磁绝缘线振荡器 谐振腔 高频特性 慢波结构 谐振频率 截止频率
  • 简介:从光学谐振腔阈值条件的推导出发,利用光学薄膜设计软件Filmstar为谐振腔的左右腔镜各设计了两种光学薄膜,使1030.5nm-1055.5nm波段连续可调谐的Yb:YAG激光实现了工作状态的最优化.针对左右腔镜,对设计方案所得结果进行了比较,并分析了方案的可行性.结果表明,左腔镜两设计方案与优化目标的差距均小于1.15%;右腔镜两设计方案与优化目标的差距均小于0.05%,本文设计为激光谐振腔的腔镜镀膜提供了可靠的理论依据.

  • 标签: Filmstar软件 光学薄膜 谐振腔镀膜 YB:YAG激光器
  • 简介:设计了金属线电谐振和镜像对称缺口环磁谐振,并组合成1.0THz左手超材料.传播参数模拟表明:电谐振和磁谐振都有阻带特性;复合结构具有左手超材料特性频带;基板厚度变化影响左手超材料特性频带位置.后向波法证明复合结构具有左手超材料后向波特性.研究了单元缺失对电磁波在左手超材料中传播稳定性的影响.证实了太赫兹波段电谐振和磁谐振复合左手超材料方法可行.

  • 标签: 太赫兹 左手超材料 后向波 单元缺失
  • 简介:薄膜物理与制备技术研究对于惯性约束聚变(ICF)实验具有重要意义,2003年开展的研究工作主要包括几个方面的内容:低压等离子化学气相沉积(LPPCVD)法微球CH涂层及掺杂(溴等)技术研究;脉冲激光沉积(PLD)法Fe/Al合金薄膜研制;磁控溅射法Au/Gd,Ti/A1,Ti/Cr支撑薄膜研制;碳氢氮(CxNyH1-x-y)薄膜制备技术研究。相应主要结果如下:(1)利用低压等离子化学气相沉积(LPPCVD)装置深入考察了以反式-2-丁烯如下:

  • 标签: 薄膜物理 制备工艺 惯性约束聚变实验 低压等离子体化学气相沉积 磁控溅射法
  • 简介:TB432003053760双通偏振干涉滤光片的研究=Researchofdouble-passpolarizationinterferencefilters[刊,中]/贺银波(浙江大学光电系,现代光学仪器国家重点实验室.浙江,杭州(310027)),熊静懿…//光学学报-2003,23(1).-89-94研究了等厚度双能偏振干涉滤光片,在此基础上提出了新型双通偏振干涉滤光片,并分析了单通、双通以及新型双通偏振干涉滤光片的光谱特性。结果表明,新型双通偏振干涉滤光片不仅具有更好的光谱特性,而且能

  • 标签: 新型双通偏振干涉滤光片 光谱特性 现代光学仪器 国家重点实验室 浙江大学 倾斜入射
  • 简介:采用等离子预处理技术和优化的金刚石薄膜沉积工艺,以期为金刚石薄膜涂层工具的制备开发一种新的实用易行的表面预处理方法。等离子预处理和金刚石薄膜沉积都在自行研制的热丝CVD系统中进行的。等离子预处理是在脱炭气氛中进行,基体温度控制在硬质合金的再结晶温度范围内,处理总时间为2h。

  • 标签: 等离子体预处理 金刚石薄膜 基体 结合力 热丝CVD系统 预处理技术
  • 简介:O484.599042623用喇曼散射光谱估算纳米Ge晶粒平均尺寸=Estimationofcrystal—sizeofnano—GebyRamanscatteringspectra[刊,中]/王印月,郑树凯,杨映虎,郭永平(兰州大学物理系.甘肃,兰州(730000)),奇莉,甘润今(北京机械工业学院基础部.北京(100085))//光学学报.—1998,18(9).—1265—1268用射频共溅射技术和真空退火方法制备了埋入SiO2基底中的纳米Ge复合膜(nc—Ge/SiO2。测量了不同温度退火后该复合膜的喇曼散射光谱,其结果与晶体Ge的喇曼谱相比,纳米Ge的喇曼峰位红移峰形变宽;用喇曼谱的参数计算了纳米Ge晶粒的平均尺寸。所得

  • 标签: 喇曼散射光谱 纳米 复合膜 平均尺寸 射频共溅射 不同温度
  • 简介:O484.52003053772厚度具有线性变化的吸收平板或膜层的非相干透射率和反射率=Incoherenttransmissivityandreflectivityofanabsorbingplaneplateorlayerwithlinearvariationsinthickness[刊,中]/钟迪生(辽宁大学物理系.辽宁,沈阳(110036))//应用光学.-2002,23(1).-40-43计算了垂直入射下厚度具有线性变化的吸收平板样品的非相干透射率和反射率(正面和反面),给出了直接确定无基底样品以及透明基底上薄膜能量(强度)系数的精确表达式。图3参3(郑锦玉)

  • 标签: 反射率 透射率 多层膜 周期厚度 线性变化 非相干
  • 简介:O484.52000031969TiO2薄膜厚度及其光学常数的测量=DeterminationofthicknessandopticalconstantsofTiO2film[刊,中]/王德育,袁春伟(东南大学分子与生物分子电子学实验室.江苏,南京(210096))//东南大学学报.—1999,29(5).—105-108描述了非线性回归模型在TiO2薄膜的光学常数及其厚度测量中的应用。利用薄膜在可见光范围内的光谱

  • 标签: 光学常数 非线性回归模型 薄膜厚度 光学薄膜 生物分子电子学 厚度测量
  • 简介:O484.52001053428光谱法求解极化聚合物薄膜的光电系数=Calcldationofelectro-coefficientsofpoledpolymerfilmsusingspectralmethod[刊,中]/孟凡青,马常宝,张光辉,吕孟凯,袁多荣,房昌水,许东(山东大学晶体材料国家重点实验室.山东,济南(250100)),任诠(山东大学光电子信息与工程系。山东,济南(250100))//半导体光电.—2000,21(6).—402-404,409

  • 标签: 光学薄膜 国家重点实验室 极化聚合物薄膜 半导体 山东大学 光电系数
  • 简介:证明了夹住椭圆薄膜的整个边界不是使薄膜的椭圆性成立的必要条件.特别地,给出了两类边界条件.分别叫做部分自由边界条件和共轭边界条件,它们使得椭圆薄膜具有椭圆性但其边界没有被完全夹住.这些结果纠正了Slicaru在下面的文章中所犯的错误:Ontheellipticityofthemiddlesurfaceofashell,C.R.Acad.Sci.Paris,t.322.Serie,p.97-100.1996.最后,通过例子说明,当椭圆薄膜的边界不限制任何条件时,使应变能有限的位移向量空间可非常大.

  • 标签: 薄膜 椭圆性 Bochner技巧
  • 简介:O484.52003021238硅(001)衬底上生长的ZnO薄膜的AFM研究=AFMstudyofZnOthinfilmsonSi(001)substrates[刊,中]/章建隽(浙江大学信息科学与电子工程系.浙江,杭州(310028)),杨爱龄//电子显微学报.—2002,21(1).—39-42对采用电子束反应蒸镀方法低温下在硅(001)衬底上外延生长的ZnO薄膜的表面构像进行了原子力显微镜(AFM)观察,分析研究了不同的衬底温度对薄膜表面形貌及结构特性的影响。在250℃衬底温度下获得的ZnO

  • 标签: 电子束反应蒸镀 衬底温度 原子力显微镜 薄膜晶体管 电子显微学报 表面形貌
  • 简介:理论研究发现,在薄型半导体探测前添加一定厚度的杂散电子过滤片,可以有效过滤探测系统中散射电子,准确测定探测对7射线诱发电子的电荷收集效率。以电荷收集效率为100%的Si—PIN探测作为该测量方法理论模拟和实验校验的基准,建立了化学气相沉积(chemicalvapordeposition,CVD)金刚石薄膜探测对γ射线响应时电荷收集效率的测量方法和系统。研究结果表明:所研制的CVD金刚石薄膜探测,在600V饱和偏压下,电荷收集效率在常态时为55%,在“priming”状态时可达69%。

  • 标签: 金刚石薄膜 半导体探测器 电荷收集效率 辐射测量 化学气相沉积
  • 简介:引入了谐振子模型对毛细现象进行了分析,用该模型不仅能比较方便地分析有关毛细现象的能量,其结果也与其他文献分析一致。

  • 标签: 谐振子 毛细现象 Young方程