简介:O484.599042623用喇曼散射光谱估算纳米Ge晶粒平均尺寸=Estimationofcrystal—sizeofnano—GebyRamanscatteringspectra[刊,中]/王印月,郑树凯,杨映虎,郭永平(兰州大学物理系.甘肃,兰州(730000)),奇莉,甘润今(北京机械工业学院基础部.北京(100085))//光学学报.—1998,18(9).—1265—1268用射频共溅射技术和真空退火方法制备了埋入SiO2基底中的纳米Ge复合膜(nc—Ge/SiO2。测量了不同温度退火后该复合膜的喇曼散射光谱,其结果与晶体Ge的喇曼谱相比,纳米Ge的喇曼峰位红移峰形变宽;用喇曼谱的参数计算了纳米Ge晶粒的平均尺寸。所得
简介:O484.52003053772厚度具有线性变化的吸收平板或膜层的非相干透射率和反射率=Incoherenttransmissivityandreflectivityofanabsorbingplaneplateorlayerwithlinearvariationsinthickness[刊,中]/钟迪生(辽宁大学物理系.辽宁,沈阳(110036))//应用光学.-2002,23(1).-40-43计算了垂直入射下厚度具有线性变化的吸收平板样品的非相干透射率和反射率(正面和反面),给出了直接确定无基底样品以及透明基底上薄膜能量(强度)系数的精确表达式。图3参3(郑锦玉)
简介:摘要:在光学薄膜加热的过程中,通过“交替隐形算法”进行计算分析。并通过求解得到最终的数值。与此同时,给出了一些计算实例。
简介:摘要:本研究深入探讨了液晶模组中光学薄膜材料的分类、特性、制备方法及其应用。研究首先对偏光膜、增亮膜、反射膜及其他功能性光学薄膜如抗反射膜、扩散膜和隔离膜进行了分类和描述,强调了它们在改进液晶显示性能中的关键作用,包括提高透光率、对比度以及显示均匀性等方面。接着,文中详细讨论了光学薄膜的制备技术,如溶液铸造法、挤出法和镀膜技术,以及这些技术如何影响薄膜的光学和物理性能。此外,还探讨了光学薄膜性能的评价标准和测试方法,确保薄膜满足液晶模组的具体应用需求。最后,研究提出了光学薄膜在制备和应用过程中的优化与改进措施,如化学改性、纳米填料增强和表面处理,以改善薄膜的光学和物理性能,从而提升液晶模组的整体性能。
简介:摘要在光学薄膜课程的教学中,采用完善的教学体系和互动式教学方法,科学地组织庞杂的知识点,将抽象的概念具体化,渗入课程前沿领域的知识,在课堂教学中重视采用多种表现形式,探索出了一种适合独立学院的教学方法。