简介:TN305.72002032298光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量=Opticalproximitycorrectionforimprovingpatternqualityinsubmicronphotolithography[刊,中]/石瑞英(四川大学物理系.四川,成都(610064)),郭永康(中科院微电子中心.北京(100010))//半导体技术.-2001,26(3).-20-26论述了近年来光学邻近校正技术的进展,讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法,并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。图8表1参14(李瑞琴)TN305.72002032299光刻技术在微细加工中的应用=Applicationoflithographytechnologytomicroelectronicmanufacturing[刊,中]/刘建海(上海先进半导体制造有限
简介:TN9112001010373光子相关计及DMA数据传输系统设计=ResearchondesignandapplicationofdualdatachannelsDMAtransfersystems[刊,中]/李峰,杨建文,陆祖康,包正康(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室.浙江,杭州(310027))∥浙江大学学报.工学版.-2000,34(2).-135-139提出了一种实现双数据通道DMA传输的新方法,并成功地应用于光子相关计中,详细地分析了工作在命令传输方式的操作时序,提出了实现双数据传输方式的逻辑设计。图6表1参5(李瑞琴)
简介:O433.597052890研究表面光学和热学特征的一种新方法—光热位移光谱=Anewmethodforthestudyofopticalandthermalpropertiesofsurfaces:photothermaldisplacementspectroscopy[刊,中]/张振杰(西北大学物理系.陕西,西安(710069))//光子学报.—1996,25(7).—585—588介绍研究固体、表面及薄膜的光学和热学特性的一种十分灵敏的探测技术。这一探测技术—光热位移光谱,是基于对样品表面吸收电磁辐射后所引起的热膨胀的测量。该技术亦适用于那些要求高真空和温度变化范围较大条件的实验研究工作。这种光谱技术还能将面吸收和体吸收很好的区分开来,入射功率面的